Photoelectrocatalytic activity of ZnO coated nano-porous silicon by atomic layer deposition

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F16%3A00089526" target="_blank" >RIV/00216224:14310/16:00089526 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1039/C6RA01655C" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1039/C6RA01655C</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1039/C6RA01655C" target="_blank" >10.1039/C6RA01655C</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Photoelectrocatalytic activity of ZnO coated nano-porous silicon by atomic layer deposition

Popis výsledku v původním jazyce

In the present study, ZnO thin film was grown on nano-porous silicon by atomic layer deposition (ALD) whereas porous silicon was prepared by a stain etching method for three different durations, 4 min (PS1), 8 min (PS2) and 12 min (PS3). SEM analysis shows that ZnO nanoparticles with a size of 20–50 nm were uniformly distributed on nano-porous silicon. AFM analysis shows that the surface roughness of the nanoporous silicon increases continuously with the increase of porous silicon etching time. In contradiction, the surface roughness is almost equal for ZnO/PS1, ZnO/PS2 and ZnO/PS3. XRD analysis shows that the ZnO nanoparticles exhibited a hexagonal wurtzite structure. XPS characterization was used to analyze the chemical composition and states present in the ZnO coated porous silicon. The DRS UV-Visible absorbance spectrum reveals that ZnO/PS3 very strongly absorbs visible light around 526 nm.

Název v anglickém jazyce

Photoelectrocatalytic activity of ZnO coated nano-porous silicon by atomic layer deposition

Popis výsledku anglicky

In the present study, ZnO thin film was grown on nano-porous silicon by atomic layer deposition (ALD) whereas porous silicon was prepared by a stain etching method for three different durations, 4 min (PS1), 8 min (PS2) and 12 min (PS3). SEM analysis shows that ZnO nanoparticles with a size of 20–50 nm were uniformly distributed on nano-porous silicon. AFM analysis shows that the surface roughness of the nanoporous silicon increases continuously with the increase of porous silicon etching time. In contradiction, the surface roughness is almost equal for ZnO/PS1, ZnO/PS2 and ZnO/PS3. XRD analysis shows that the ZnO nanoparticles exhibited a hexagonal wurtzite structure. XPS characterization was used to analyze the chemical composition and states present in the ZnO coated porous silicon. The DRS UV-Visible absorbance spectrum reveals that ZnO/PS3 very strongly absorbs visible light around 526 nm.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

RSC Advances

ISSN

2046-2069

e-ISSN

—

Svazek periodika

6

Číslo periodika v rámci svazku

30

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

25173-25178

Kód UT WoS článku

000372252700043

EID výsledku v databázi Scopus

—