Structural and morphological characterization of Al2O3 coated macro-porous silicon by atomic layer deposition
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F16%3A00090987" target="_blank" >RIV/00216224:14310/16:00090987 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060901630534X" target="_blank" >http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S004060901630534X</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2016.09.026" target="_blank" >10.1016/j.tsf.2016.09.026</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Structural and morphological characterization of Al2O3 coated macro-porous silicon by atomic layer deposition
Popis výsledku v původním jazyce
In the present study, Al2O3 coated on macro-porous silicon (m-PS) is prepared by atomic layer deposition (ALD) whereas m-PS is prepared by electrochemical anodization of P type silicon (100) with current density of 15 mA/cm2. Field emission scanning electron microscopy analysis shows Al2O3 nanoparticles with size of ~ 100 nm are conformally coated on m-PS. The surface chemistry and formation mechanism of ALD of Al2O3 (ALD-Al2O3) on m-PS are demonstrated in detail. Optical profilometer results of Al2O3/m-PS confirm conformality of Al2O3 coating on m-PS because the surface amplitude parameter values of m-PS are decreased after ALD-Al2O3. Fourier Transform Infrared analysis confirms that unstable Si-H species of m-PS are replaced with stable Si-Al species. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of Al2O3/m-PS is carried out for chemical analysis and band gap energy measurement of Al2O3.
Název v anglickém jazyce
Structural and morphological characterization of Al2O3 coated macro-porous silicon by atomic layer deposition
Popis výsledku anglicky
In the present study, Al2O3 coated on macro-porous silicon (m-PS) is prepared by atomic layer deposition (ALD) whereas m-PS is prepared by electrochemical anodization of P type silicon (100) with current density of 15 mA/cm2. Field emission scanning electron microscopy analysis shows Al2O3 nanoparticles with size of ~ 100 nm are conformally coated on m-PS. The surface chemistry and formation mechanism of ALD of Al2O3 (ALD-Al2O3) on m-PS are demonstrated in detail. Optical profilometer results of Al2O3/m-PS confirm conformality of Al2O3 coating on m-PS because the surface amplitude parameter values of m-PS are decreased after ALD-Al2O3. Fourier Transform Infrared analysis confirms that unstable Si-H species of m-PS are replaced with stable Si-Al species. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of Al2O3/m-PS is carried out for chemical analysis and band gap energy measurement of Al2O3.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Thin Solid Films
ISSN
0040-6090
e-ISSN
—
Svazek periodika
616
Číslo periodika v rámci svazku
October
Stát vydavatele periodika
CH - Švýcarská konfederace
Počet stran výsledku
7
Strana od-do
628-634
Kód UT WoS článku
000389388600089
EID výsledku v databázi Scopus
—