Evolution of sputtered species densities in HiPIMS process with acetylene gas

Kód výsledku v IS VaVaI

RIV/00216224:14310/17:00095253 - isvavai.cz

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Evolution of sputtered species densities in HiPIMS process with acetylene gas

Popis výsledku v původním jazyce

We report the effect of increasing the mass flow rate of the acetylene gas on the sputtered Ti atom and ion ground state number densities using the spectroscopic method based on effective branching fractions in HiPIMS and DCMS process.

Název v anglickém jazyce

Evolution of sputtered species densities in HiPIMS process with acetylene gas

Popis výsledku anglicky

We report the effect of increasing the mass flow rate of the acetylene gas on the sputtered Ti atom and ion ground state number densities using the spectroscopic method based on effective branching fractions in HiPIMS and DCMS process.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

—

OECD FORD obor

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Projekt

GA15-00863S: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2017

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů