Enhanced permeability dielectric thin films with tailored properties deposited by magnetron sputtering on silicon

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F19%3A00108996" target="_blank" >RIV/00216224:14310/19:00108996 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5079477" target="_blank" >https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5079477</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.5079477" target="_blank" >10.1063/1.5079477</a>

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Enhanced permeability dielectric thin films with tailored properties deposited by magnetron sputtering on silicon
Popis výsledku v původním jazyce
We have studied the structural and magnetic properties of enhanced-permeability-dielectric (EPD) FeCo/Al2O3-multilayer thin films deposited on 8”-Si wafers in an industrial magnetron sputtering system.
Název v anglickém jazyce
Enhanced permeability dielectric thin films with tailored properties deposited by magnetron sputtering on silicon
Popis výsledku anglicky
We have studied the structural and magnetic properties of enhanced-permeability-dielectric (EPD) FeCo/Al2O3-multilayer thin films deposited on 8”-Si wafers in an industrial magnetron sputtering system.

Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Popis výsledku