STRUCTURING OF POLYMETHYLMETHACRYLATE SUBSTRATES BY REDUCING PLASMA

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F19%3A00134431" target="_blank" >RIV/00216224:14310/19:00134431 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://neon.dpp.fmph.uniba.sk/sappxxii/download/SAPP_XXII_JSPP_XI_Book_of_Contributed_Papers.pdf" target="_blank" >https://neon.dpp.fmph.uniba.sk/sappxxii/download/SAPP_XXII_JSPP_XI_Book_of_Contributed_Papers.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
STRUCTURING OF POLYMETHYLMETHACRYLATE SUBSTRATES BY REDUCING PLASMA
Popis výsledku v původním jazyce
This contribution presents the results of plasma modification of rigid and flexible polymethyl methacrylate (PMMA) using Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) generated in pure hydrogen at atmospheric pressure. After the several minutes of the plasma treatment, a timedependent and plasma gap-dependent formation of nanoscale pillar-like structures was observed on rigid and flexible PMMA surface. The structuring and etching of substrates were investigated by a scanning electron microscopy. Atomic force microscopy revealed an increase of surface roughness in the order of 10.
Název v anglickém jazyce
STRUCTURING OF POLYMETHYLMETHACRYLATE SUBSTRATES BY REDUCING PLASMA
Popis výsledku anglicky
This contribution presents the results of plasma modification of rigid and flexible polymethyl methacrylate (PMMA) using Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) generated in pure hydrogen at atmospheric pressure. After the several minutes of the plasma treatment, a timedependent and plasma gap-dependent formation of nanoscale pillar-like structures was observed on rigid and flexible PMMA surface. The structuring and etching of substrates were investigated by a scanning electron microscopy. Atomic force microscopy revealed an increase of surface roughness in the order of 10.

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku
22nd Symposium on Applications of Plasma Processes (SAPP XXII) and the 11th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing, Book of Contributed Papers
ISBN
9788081470899
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
269-272
Název nakladatele
Comenius University Bratislava, Library and Publishing Centre CU
Místo vydání
Bratislava, Slovakia
Místo konání akce
Štrbské Pleso, Slovakia
Datum konání akce
18. 1. 2019
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—

Podobné výsledky(10)