Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F23%3A00130646" target="_blank" >RIV/00216224:14310/23:00130646 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1088/1361-6595/acc686" target="_blank" >https://doi.org/10.1088/1361-6595/acc686</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/acc686" target="_blank" >10.1088/1361-6595/acc686</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Popis výsledku v původním jazyce
The behavior of the ground state neutral and singly ionized atoms is studied in multipulse high power impulse magnetron sputtering processes. The time-resolved two-dimensional laser induced fluorescence was used for imaging the discharge volume (density mapping) during the plasma-on and plasma-off time phases. The role of the number of micropulses and delay time between the micropulses in the pulse package is analyzed and discussed systematically. In addition, the propagation of the sputtered particles from the target is investigated.
Název v anglickém jazyce
Dynamics of sputtered particles in multipulse HiPIMS discharge
Popis výsledku anglicky
The behavior of the ground state neutral and singly ionized atoms is studied in multipulse high power impulse magnetron sputtering processes. The time-resolved two-dimensional laser induced fluorescence was used for imaging the discharge volume (density mapping) during the plasma-on and plasma-off time phases. The role of the number of micropulses and delay time between the micropulses in the pulse package is analyzed and discussed systematically. In addition, the propagation of the sputtered particles from the target is investigated.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2023
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Sources Science and Technology
ISSN
0963-0252
e-ISSN
1361-6595
Svazek periodika
32
Číslo periodika v rámci svazku
4
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
12
Strana od-do
1-12
Kód UT WoS článku
000963848900001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-85152493002