Některé problémy měření mikrotvrdosti tenkých vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14410%2F09%3A00037898" target="_blank" >RIV/00216224:14410/09:00037898 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Některé problémy měření mikrotvrdosti tenkých vrstev
Popis výsledku v původním jazyce
Cílem našeho příspěvku je studium závislosti mikrotvrdosti na hloubce vtisku (nebo na aplikovaném zatížení). Tato závislost je zpravidla klesající a je známa jako Indentation Size Effect (ISE). Studovali jsme ji pro čistou měď a zinek a výsledky porovnali se známými modely. Naměřené výsledky ukazují, že pro námi vyšetřované materiály (Cu a Zn) není ISE artefaktem, ale je vlastností materiálu. Kvalitativně lze tento jev objasnit pomocí předpokladu o existenci tzv. geometricky nutných dislokací, tj. dislokací, vznikajících v okolí vtisku..
Název v anglickém jazyce
Some Problems of Thin Films Hardness Measurement
Popis výsledku anglicky
The purpose of our contribution was to study the load dependence of the microhardness. This well known phenomena is called the Indentation Size Effect (ISE) and was investigated for two sets of specimen: pure copper and zinc. Variation of the microhardness with depth of indent (or applied load) was compared with various existing models. For the materials investigated the ISE is not artefact and can be explained by the hypothesis of presence of geometrically necessary dislocations, i.e. dislocations produced to accomodate the gradient in strain surrounding the indent.

Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)