Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14740%2F13%3A00070947" target="_blank" >RIV/00216224:14740/13:00070947 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142" target="_blank" >10.1117/12.2025142</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators
Popis výsledku v původním jazyce
Beam inhomogeneities of asymmetric Ge(220)-based V-shaped and single bounce monochromators have been studied both in metrological and imaging applications for photon energies around 8 keV. Presence of growth striations in graded GeSi, grains in single Cucrystal, and strains in thermally tuned V-channel monochromators observed in X-ray topographs excludes these materials from imaging applications. As for stochastic surface processing, chemomechanical polishing (CMP) produces better surface homogeneity than chemical polish. However, CMP is more difficult to be applied in V-channels, where chemical polishing is prefered. For comparison, measurements on surfaces processed by a deterministic mechanical method of single point diamond turning (SPDT) have shown SPDT to be a perspective technology. Again, to prepare deep grooves with this technique is also a challenge, mainly for tool makers. Some process induced features are observed as wavefield distortions in interference fringes.
Název v anglickém jazyce
Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators
Popis výsledku anglicky
Beam inhomogeneities of asymmetric Ge(220)-based V-shaped and single bounce monochromators have been studied both in metrological and imaging applications for photon energies around 8 keV. Presence of growth striations in graded GeSi, grains in single Cucrystal, and strains in thermally tuned V-channel monochromators observed in X-ray topographs excludes these materials from imaging applications. As for stochastic surface processing, chemomechanical polishing (CMP) produces better surface homogeneity than chemical polish. However, CMP is more difficult to be applied in V-channels, where chemical polishing is prefered. For comparison, measurements on surfaces processed by a deterministic mechanical method of single point diamond turning (SPDT) have shown SPDT to be a perspective technology. Again, to prepare deep grooves with this technique is also a challenge, mainly for tool makers. Some process induced features are observed as wavefield distortions in interference fringes.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ED1.1.00%2F02.0068" target="_blank" >ED1.1.00/02.0068: CEITEC - central european institute of technology</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Advances in X-Ray/EUV Optics and Components VIII
ISBN
9780819496980
ISSN
0277-786X
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
"88480U-1-88480U-8"
Název nakladatele
SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING
Místo vydání
USA
Místo konání akce
San Diego
Datum konání akce
26. 8. 2013
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000326748800024