Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14740%2F13%3A00070947" target="_blank" >RIV/00216224:14740/13:00070947 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.2025142" target="_blank" >10.1117/12.2025142</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Beam inhomogeneities of asymmetric Ge(220)-based V-shaped and single bounce monochromators have been studied both in metrological and imaging applications for photon energies around 8 keV. Presence of growth striations in graded GeSi, grains in single Cucrystal, and strains in thermally tuned V-channel monochromators observed in X-ray topographs excludes these materials from imaging applications. As for stochastic surface processing, chemomechanical polishing (CMP) produces better surface homogeneity than chemical polish. However, CMP is more difficult to be applied in V-channels, where chemical polishing is prefered. For comparison, measurements on surfaces processed by a deterministic mechanical method of single point diamond turning (SPDT) have shown SPDT to be a perspective technology. Again, to prepare deep grooves with this technique is also a challenge, mainly for tool makers. Some process induced features are observed as wavefield distortions in interference fringes.

  • Název v anglickém jazyce

    Process-induced inhomogeneities in higher asymmetry angle X-ray monochromators

  • Popis výsledku anglicky

    Beam inhomogeneities of asymmetric Ge(220)-based V-shaped and single bounce monochromators have been studied both in metrological and imaging applications for photon energies around 8 keV. Presence of growth striations in graded GeSi, grains in single Cucrystal, and strains in thermally tuned V-channel monochromators observed in X-ray topographs excludes these materials from imaging applications. As for stochastic surface processing, chemomechanical polishing (CMP) produces better surface homogeneity than chemical polish. However, CMP is more difficult to be applied in V-channels, where chemical polishing is prefered. For comparison, measurements on surfaces processed by a deterministic mechanical method of single point diamond turning (SPDT) have shown SPDT to be a perspective technology. Again, to prepare deep grooves with this technique is also a challenge, mainly for tool makers. Some process induced features are observed as wavefield distortions in interference fringes.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/ED1.1.00%2F02.0068" target="_blank" >ED1.1.00/02.0068: CEITEC - central european institute of technology</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Advances in X-Ray/EUV Optics and Components VIII

  • ISBN

    9780819496980

  • ISSN

    0277-786X

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    "88480U-1-88480U-8"

  • Název nakladatele

    SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING

  • Místo vydání

    USA

  • Místo konání akce

    San Diego

  • Datum konání akce

    26. 8. 2013

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku

    000326748800024