Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Vývoj fotorezistu na bázi amorfního chalkogenidu pro gray scale litografii

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216275%3A25310%2F06%3A00004626" target="_blank" >RIV/00216275:25310/06:00004626 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Development of chalcogenide glass photoresists for gray scale lithography

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Wet and dry negative etching procedures are evaluated for the fabrication of 3D graded microstructures in As-S based inorganic photoresists. Absorption of light and consequent photostructural changes near the surface layer enhance the chemical resistanceof the As-S &#64257;lms. The success of the procedure is demonstrated by fabricating arrays of 12 lm diameter microlenses in a thin As35S65 &#64257;lm using a gray scale Cr mask and wet etching. The selectivity of dry etching is successfully realized byusing photodi&#64256;usion in Ag-As2S3 bilayer structure. In this case, however, surface roughness or 'grass' is observed after etching. An unexpected segregation of silver is observed at the edges and at the boundary between the exposed and unexposed regions, which is investigated by SEM and XPS.

  • Název v anglickém jazyce

    Development of chalcogenide glass photoresists for gray scale lithography

  • Popis výsledku anglicky

    Wet and dry negative etching procedures are evaluated for the fabrication of 3D graded microstructures in As-S based inorganic photoresists. Absorption of light and consequent photostructural changes near the surface layer enhance the chemical resistanceof the As-S &#64257;lms. The success of the procedure is demonstrated by fabricating arrays of 12 lm diameter microlenses in a thin As35S65 &#64257;lm using a gray scale Cr mask and wet etching. The selectivity of dry etching is successfully realized byusing photodi&#64256;usion in Ag-As2S3 bilayer structure. In this case, however, surface roughness or 'grass' is observed after etching. An unexpected segregation of silver is observed at the edges and at the boundary between the exposed and unexposed regions, which is investigated by SEM and XPS.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CA - Anorganická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2006

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Non-Crystalline Solids

  • ISSN

    0022-3093

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

  • Číslo periodika v rámci svazku

    352

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

    589-594

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus