Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F10%3APU88878" target="_blank" >RIV/00216305:26220/10:PU88878 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Změny dielektrického spektra polymeru při dlouhodobé expozici při nízkých teplotách

Popis výsledku v původním jazyce

Příspěvek se zabývá vlivem dlouhodobé expozice typického sklotvorného materiálu - při nízkých teplotách (170 - 300 K) na jeho dielektrické spektrum ve frekvenčním rozsahu 100 Hz - 1 MHz. Zejména jsou studovány změny průběhu vysokofrekvenční strany pozorovaného relaxačního maxima v závislosti na době expozice. Přechod od přímkového průběhu ?''=f(?), pozorovaného při krátkých dobách expozice, k průběhu zakřivenému, jenž je pozorován při prodlužování expozice, je interpretován jako projev dalšího relaxačního procesu, jenž je při krátkých expozicích překryt původním relaxačním maximem a který se teprve postupně vynořuje z pozadí. Výskyt tohoto druhého relaxačního procesu je sledován v závislosti na dvou parametrech - teplotě vzorku a době expozice. Jsou diskutovány mikroskopické mechanismy, vedoucí k jeho vzniku.

Název v anglickém jazyce

Change of dielectrics spectrum of polymers during long exposition and low temperatures

Popis výsledku anglicky

The paper deals with the influence of longtime exposition of typical glass - forming material at low temperatures (100 - 300 K) over its dielectric spectrum in frequency range 100 Hz - 1 MHz. Changes of the process of high - frequency part of watched relaxation maximum depending on the time of exposition are studied in the main. The transition from linear process ?''=f(?), watched at short time of exposition, to incurvate process, watched at protraction of exposition, is explicated as a denotation of another relaxation process, which is covered with the original relaxation maximum at short time of exposition and which crops out step by step from the background. The occurrence of this second relaxation process is watched according to two arguments - temperature of the sample and time of the exposition. The microscopic mechanism is discussed, which leads to its rise.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GAP102%2F10%2F2013" target="_blank" >GAP102/10/2013: Fluktuační procesy v PN přechodech solárních článků</a><br>

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Jemná mechanika a optika

ISSN

0447-6441

e-ISSN

—

Svazek periodika

2010

Číslo periodika v rámci svazku

10

Stát vydavatele periodika

CZ - Česká republika

Počet stran výsledku

3

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—