Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F15%3APU115816" target="_blank" >RIV/00216305:26220/15:PU115816 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

  • Popis výsledku v původním jazyce

    This article deals with the investigation of the influence of sintering conditions on the formation process of screen printed contacts on passivated boron doped P+ emitters. The experiment was focused on measuring of resistance changes of two thick filmpastes during firing processes with different conditions. Two different temperature profiles were compared at an atmospheric concentration of O2. The influence of the O2 concentration on resistance was investigated for one profile. A rapid thermal processing furnace modified for in-situ resistance measurements was used. The change of resistance was measured simultaneously with the temperature

  • Název v anglickém jazyce

    Investigation of Contact Formation during Silicon Solar Cell Production

  • Popis výsledku anglicky

    This article deals with the investigation of the influence of sintering conditions on the formation process of screen printed contacts on passivated boron doped P+ emitters. The experiment was focused on measuring of resistance changes of two thick filmpastes during firing processes with different conditions. Two different temperature profiles were compared at an atmospheric concentration of O2. The influence of the O2 concentration on resistance was investigated for one profile. A rapid thermal processing furnace modified for in-situ resistance measurements was used. The change of resistance was measured simultaneously with the temperature

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    IMAPS Flash conference 2015

  • ISBN

    978-80-214-5270-1

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

    19-20

  • Název nakladatele

    Neuveden

  • Místo vydání

    Brno

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    15. 10. 2015

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku