Cleaning of tungsten tips for subsequent cold field emission application.

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26220%2F23%3APU149503" target="_blank" >RIV/00216305:26220/23:PU149503 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Cleaning of tungsten tips for subsequent cold field emission application.
Popis výsledku v původním jazyce
An important aspect of many applications involves the cleaning of crucial components, which can vary depending on their subsequent use (e.g., vacuum level, ongoing chemical reactions, sample sensitivity, etc.). In this study, we will address the cleaning of cold field emission electron emitters, where a clean surface is required for subsequent layer deposition and to classify the nature of the resulting interface.
Název v anglickém jazyce
Cleaning of tungsten tips for subsequent cold field emission application.
Popis výsledku anglicky
An important aspect of many applications involves the cleaning of crucial components, which can vary depending on their subsequent use (e.g., vacuum level, ongoing chemical reactions, sample sensitivity, etc.). In this study, we will address the cleaning of cold field emission electron emitters, where a clean surface is required for subsequent layer deposition and to classify the nature of the resulting interface.

Rok uplatnění
2023
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)