PECVD Characterization During the Deposition of Thin Fluorocarbon Films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26310%2F13%3APU105252" target="_blank" >RIV/00216305:26310/13:PU105252 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

PECVD Characterization During the Deposition of Thin Fluorocarbon Films

Popis výsledku v původním jazyce

This presentation focuses on plasma diagnostic of the deposition process during the preparation of the thin film prepared by a PECVD technique. The discharge was monitored using optical emission spectroscopy and in situ mass spectrometry.

Název v anglickém jazyce

PECVD Characterization During the Deposition of Thin Fluorocarbon Films

Popis výsledku anglicky

This presentation focuses on plasma diagnostic of the deposition process during the preparation of the thin film prepared by a PECVD technique. The discharge was monitored using optical emission spectroscopy and in situ mass spectrometry.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů