Guided Assembly of Gold Colloidal Nanoparticles on Silicon Substrates Prepatterned by Charged Particle Beams
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F12%3APU101390" target="_blank" >RIV/00216305:26620/12:PU101390 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Guided Assembly of Gold Colloidal Nanoparticles on Silicon Substrates Prepatterned by Charged Particle Beams
Popis výsledku v původním jazyce
Colloidal gold nanoparticles represent technological building blocks which are easy to fabricate while keeping full control of their shape and dimensions. Here, we report on a simple two-step maskless process to assemble gold nanoparticles from a water colloidal solution at specific sites of a silicon surface. First, the silicon substrate covered by native oxide is exposed to a charged particle beam (ions or electrons) and then immersed in a HF-modified solution of colloidal nanoparticles. The irradiation of the native oxide layer by a low-fluence charged particle beam causes changes in the type of surface-terminating groups, while the large fluences induce even more profound modification of surface composition. Hence, by a proper selection of the initial substrate termination, solution pH, and beam fluence, either positive or negative deposition of the colloidal nanoparticles can be achieved.
Název v anglickém jazyce
Guided Assembly of Gold Colloidal Nanoparticles on Silicon Substrates Prepatterned by Charged Particle Beams
Popis výsledku anglicky
Colloidal gold nanoparticles represent technological building blocks which are easy to fabricate while keeping full control of their shape and dimensions. Here, we report on a simple two-step maskless process to assemble gold nanoparticles from a water colloidal solution at specific sites of a silicon surface. First, the silicon substrate covered by native oxide is exposed to a charged particle beam (ions or electrons) and then immersed in a HF-modified solution of colloidal nanoparticles. The irradiation of the native oxide layer by a low-fluence charged particle beam causes changes in the type of surface-terminating groups, while the large fluences induce even more profound modification of surface composition. Hence, by a proper selection of the initial substrate termination, solution pH, and beam fluence, either positive or negative deposition of the colloidal nanoparticles can be achieved.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
ACS Nano
ISSN
1936-0851
e-ISSN
—
Svazek periodika
6
Číslo periodika v rámci svazku
11
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
10098-10106
Kód UT WoS článku
000311521700082
EID výsledku v databázi Scopus
—