Effect of deposition angle on fabrication of plasmonic metal nanocones

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F21%3APU150959" target="_blank" >RIV/00216305:26620/21:PU150959 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Effect of deposition angle on fabrication of plasmonic metal nanocones

Popis výsledku v původním jazyce

Metal nanocones can be used to enhance light–matter interactions or for location-specific plasmonic sensing. Their fabrication often utilizes self-shading effect, which occurs during metal film evaporation into circular nanowells. We present a view on the fabrication of ordered arrays of gold nanocones using electron-beam lithography/evaporation. Lateral position of the substrate during the evaporation influences the symmetry of the fabricated nanocones and that off-axis deposition forms asymmetric structures. Our findings help to identify limits for production of wafer-scale arrays.

Název v anglickém jazyce

Effect of deposition angle on fabrication of plasmonic metal nanocones

Popis výsledku anglicky

Metal nanocones can be used to enhance light–matter interactions or for location-specific plasmonic sensing. Their fabrication often utilizes self-shading effect, which occurs during metal film evaporation into circular nanowells. We present a view on the fabrication of ordered arrays of gold nanocones using electron-beam lithography/evaporation. Lateral position of the substrate during the evaporation influences the symmetry of the fabricated nanocones and that off-axis deposition forms asymmetric structures. Our findings help to identify limits for production of wafer-scale arrays.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2021

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů