High-Capacitance Nanoporous Noble Metal Thin Films via Reduction of Sputtered Metal Oxides

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216305%3A26620%2F22%3APU144249" target="_blank" >RIV/00216305:26620/22:PU144249 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/admi.202101973" target="_blank" >https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/admi.202101973</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1002/admi.202101973" target="_blank" >10.1002/admi.202101973</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

High-Capacitance Nanoporous Noble Metal Thin Films via Reduction of Sputtered Metal Oxides

Popis výsledku v původním jazyce

Increasing the electrochemical surface area of noble metal electrodes is vital for many applications, including catalysis and bioelectronics. Herein, a method is presented for obtaining porous noble metal thin films via reactive magnetron sputtering of noble metal oxides, MOx, followed by their reduction using chemical reducers or electrochemical current. Variation of reduction conditions yields a range of different electrochemical and morphological properties. This method for obtaining porous noble metals is rapid, facile, and compatible with microfabrication processes. The resulting metallic films are porous and have competitively high capacitance and low impedance.

Název v anglickém jazyce

High-Capacitance Nanoporous Noble Metal Thin Films via Reduction of Sputtered Metal Oxides

Popis výsledku anglicky

Increasing the electrochemical surface area of noble metal electrodes is vital for many applications, including catalysis and bioelectronics. Herein, a method is presented for obtaining porous noble metal thin films via reactive magnetron sputtering of noble metal oxides, MOx, followed by their reduction using chemical reducers or electrochemical current. Variation of reduction conditions yields a range of different electrochemical and morphological properties. This method for obtaining porous noble metals is rapid, facile, and compatible with microfabrication processes. The resulting metallic films are porous and have competitively high capacitance and low impedance.

Druh

J_imp - Článek v periodiku v databázi Web of Science

CEP obor

—

OECD FORD obor

10405 - Electrochemistry (dry cells, batteries, fuel cells, corrosion metals, electrolysis)

Projekt

<a href="/cs/project/LM2018110" target="_blank" >LM2018110: Výzkumná infrastruktura CzechNanoLab</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2022

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Advanced Materials Interfaces

ISSN

2196-7350

e-ISSN

—

Svazek periodika

9

Číslo periodika v rámci svazku

5

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

„2101973-1“-„2101973-6“

Kód UT WoS článku

000743184100001

EID výsledku v databázi Scopus

2-s2.0-85122806468