Funkční vzorek litografu
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F01733214%3A_____%2F15%3A00000001" target="_blank" >RIV/01733214:_____/15:00000001 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Funkční vzorek litografu
Popis výsledku v původním jazyce
Byl sestaven funkční litografický systém, a na základě jeho funkčních testů budou stanoveny směr a priorit dalšího vývoje. Funkční vzorek zařízení včetně řídícího software zařízení je kompletně sestaven. Testování subcelků poskytly další podněty k vylepšování a optimalizace v konstrukci. Paralelně probíhal vývoj základního software pro řízení litografu a firmware DSP/FPGA, a následně byl testován funkčnost subcelků, a posléze celého systému. Odměřovací systém: Elektronika odměřovacího systému byla vyrobena a softwarové detekce a zpracování interferometrického systému byla dokončena. Pro funkční vzorek litografického systému byla sestrojena úplně nová modulární elektronika s možností modifikací. Byly vypracovány metody pro vyhodnocení nepřesnosti expozice velkých ploch. Software pro řízení litografického systému je dokončena a integrována do software pro řízení mikroskopu. První testovací litografické struktury byly realizovány.
Název v anglickém jazyce
Functional sample of a lithograph
Popis výsledku anglicky
A functional lithographic system was assembled, and based on its functional tests, the direction and priorities for future development will be determined. The functional sample including device control software is fully integrated. Testing of the individual components provided leads for improving and optimizing the overall system. Software development for managing lithograph and the DSP / FPGA firmware ran in parallel. The functionality of the components, and subsequently of the whole system was tested. Measuring system: An electronic measuring system was manufactured and software detection and processing of the interferometric system has been completed. Completely new modular electronics allowing for optional modifications was constructed for this functional sample. Methods were developed for assessing exposure inaccuracies over large areas. Software management for the lithograph system is complete and has been integrated into the software for microscope control. The first set of test lithographic structures have been made.
Klasifikace
Druh
G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TE01020233" target="_blank" >TE01020233: Platforma pokročilých mikroskopických a spektroskopických technik pro nano a mikrotechnologie</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2015
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
EBL – litografický systém
Číselná identifikace
—
Technické parametry
Nagavalli S. Kiran, kiran@tescan.cz; 530 353 131
Ekonomické parametry
Funkční vzorek přístroje je základem pro vývoj prototypu, který následně bude uvolněn do výroby.
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
01733214
Název vlastníka
TESCAN Brno, s.r.o.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—