Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Ověřená technologie plazmatické přípravy transmisního ochranného prvku

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F24279501%3A_____%2F23%3AN0000006" target="_blank" >RIV/24279501:_____/23:N0000006 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Ověřená technologie plazmatické přípravy transmisního ochranného prvku

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Ověřená technologie, na které je možné realizovat výrobu transmisního ochranného prvku pomocí zařízení pro plazmatické naprašování na polymerní substrát tenkou vrstvou TiO2 (oxid titaničitý) a Cr (kovový chrom) na plastový substrát s optickým difrakčním reliéfem. Pro substrát byla zvolena polykarbonátová fólie, do které byla za zvýšené teploty a tlaku otisknuta vhodná reliéfní struktura z příslušného masteru. Technologický postup výroby bezpečnostního prvku zasahuje též do následujících technologických bloků před plazmatickou a po plazmatické depozici tenkých vrstev: A. Příprava polymerních struktur - mastering, galvanika, lisování, B. Selektivní plazmatická depozice nehomogenních tenkých vrstev - metalizace a reaktivní plazmatická depozice – selektivní pulzní magnetronové naprašování s 2D kolimátorem a reaktivní naprašování s výbojem v duté katodě a supersonickým tokem, C. Laminace.

  • Název v anglickém jazyce

    Proven technology of plasma preparation of the transmission protective element

  • Popis výsledku anglicky

    A proven technology on which it is possible to realize the production of a transmission protective element using a device for plasma sputtering on a polymer substrate with a thin layer of TiO2 (titanium dioxide) and Cr (metallic chromium) on a plastic substrate with optical diffraction relief. A polycarbonate foil was chosen for the substrate, into which a suitable relief structure from the respective master was printed at elevated temperature and pressure. The technological procedure for the production of the security element also includes the following technological blocks before and after plasma deposition of thin layers: A. Preparation of polymer structures - mastering, galvanic, pressing, B. Selective plasma deposition of inhomogeneous thin layers - metallization and reactive plasma deposition - selective pulsed magnetron sputtering with 2D collimator and reactive sputtering with hollow cathode discharge and supersonic flow, C. Lamination.

Klasifikace

  • Druh

    Z<sub>tech</sub> - Ověřená technologie

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/EG21_374%2F0026818" target="_blank" >EG21_374/0026818: Transmisní optické prvky pro zabezpečení bankovek a dokladů s využitím selektivní depozice tenkovrstvé struktury</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2023

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Interní identifikační kód produktu

    OT001

  • Číselná identifikace

  • Technické parametry

    Technické parametry substrátu: Materiál: Polykarbonát Tloušťka fólie: 100 um Hloubka reliéfu: 1 um Střední perioda reliéfu: 4 um Minimální perioda reliéfu: 0,6 um Rozlišení záznamu reliéfu: 250 nm Typ záznamu reliéfu: elektronová litografie Technické parametry technologického procesu: Průtok argonu: QAr= 200 sccm Průtok kyslíku: QO2= 5 sccm Tlak pracovního plynu: p= 6 Pa Depoziční čas: td= 20 min Střední proud výbojem: Iav = 1 A Střední výkon výboje: Pav = 280 W Napětí na katodě v aktivní části výboje: Uav=-280 V Frekvence pulzování: fp = 20 Hz Doba vypnutí výboje: TOFF= 5 μs Vzdálenost výstupu duté katody a substrátu: ls= 90 mm. Úhel mezi normálovým vektorem roviny substrátu a osou supersonického proudění plazmatu: φ= 45 0

  • Ekonomické parametry

    navýšení tržeb o 2 % v roce 2024 a v obdobném trendu v následujících třech letech

  • Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

  • IČO vlastníka výsledku

    24279501

  • Název vlastníka

    IQS Group, a.s.

  • Stát vlastníka

    CZ - Česká republika

  • Druh možnosti využití

    V - Výsledek je využíván vlastníkem

  • Požadavek na licenční poplatek

    A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

  • Adresa www stránky s výsledkem