Substrát GaGG:Ce pro epitaxii dia. 25mm

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F25296558%3A_____%2F22%3AN0000028" target="_blank" >RIV/25296558:_____/22:N0000028 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Substrát GaGG:Ce pro epitaxii dia. 25mm
Popis výsledku v původním jazyce
Byl připraven funkční vzorek epitaxně leštěného substrátu GAGG:Ce s průměrem 1" a povrchovou plošnou drsností nižší než 0,3 nm.
Název v anglickém jazyce
 GaGG:Ce substrate for epitaxy dia. 25 mm
Popis výsledku anglicky
A functional sample of the epitaxially polished GAGG:Ce substrate with a diameter of 1" and surface roughness lower than 0.3 nm was prepared.

Projekt
<a href="/cs/project/FW03010298" target="_blank" >FW03010298: Průlomové optoelektronické materiály pro přístrojovou techniku</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2022
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Interní identifikační kód produktu
FW03010298-V19
Číselná identifikace
FW03010298-V19
Technické parametry
Byl připraven funkční vzorek epitaxně leštěného substrátu GAGG:Ce s průměrem 1" a povrchovou plošnou drsností nižší než 0,3 nm.
Ekonomické parametry
Rozšíření portfolia
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
25296558
Název vlastníka
CRYTUR, spol. s r.o.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—

Popis výsledku