Prototyp jednodeskového vysokoteplotního MOCVD reaktoru

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F27711170%3A_____%2F18%3AN0000001" target="_blank" >RIV/27711170:_____/18:N0000001 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Prototyp jednodeskového vysokoteplotního MOCVD reaktoru
Popis výsledku v původním jazyce
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli prototyp jednodeskového MOCVD reaktoru pro depozici metal-nitridových vrstev na substrátech o průměru do 100 mm.
Název v anglickém jazyce
Prototype of high temperature MOCVD reactor for single wafer processing
Popis výsledku anglicky
Prototype of single wafer MOCVD reactor for 4” substrates enabling deposition of metal-nitride thin films was developed in the frame of TACR project.

Projekt
<a href="/cs/project/TH02020926" target="_blank" >TH02020926: Experimentální vývoj MOCVD aparatur pro vysokoteplotní růst A(III)B(V) polovodičů a aplikovaný výzkum růstu metal-nitridových epitaxních tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2018
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Interní identifikační kód produktu
PT01/SVCS/2018
Číselná identifikace
PT01/SVCS/2018
Technické parametry
Prototyp jednodeskového MOCVD reaktoru pro depozici metal-nitridových vrstev na substrátech o průměru do 100 mm.
Ekonomické parametry
Laboratorní prototyp nezbytný pro další aplikovaný výzkum a finální komercionalizaci výsledků projektu
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
27711170
Název vlastníka
SVCS Process Innovation s.r.o.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—

Popis výsledku