Modifikace materiálů pro optiku, elektroniku a spintroniku iontovým svazkem - iontová implantace pomocí urychlovačů nebo laserem indukovaného plazmatu.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F44555601%3A13440%2F16%3A43887750" target="_blank" >RIV/44555601:13440/16:43887750 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Modifikace materiálů pro optiku, elektroniku a spintroniku iontovým svazkem - iontová implantace pomocí urychlovačů nebo laserem indukovaného plazmatu.

Popis výsledku v původním jazyce

Svazky energetických iontů se využívají k modifikaci povrchových vrstev pevnýchlátek a pro analýzu jejich složení a struktury. Skupinu analytických metod využívající energetickéionty nazýváme jaderné analytické metody případně iontové analytické metody (IonBeamAnalysis - IBA). Tyto metody mají řadu unikátních vlastností, pro které nemohou býtnahrazeny jinými alternativními postupy při kvalitativní a kvantitativní analýze materiálů.V laboratoři jaderných analytických metod Ústavu jaderné fyziky AV ČR v. v. i. se pro tyto účely využívá elektrostatický urychlovač typu Tandetron 4130 MC od firmy HighVoltageEngineeringEurope B.V.Urychlovač poskytuje svazky iontů od vodíku po zlatos iontovými toky do jednotek mA a energiemi od stovek keV do desítek MeV. V průběhu posledních let byly v laboratoři jaderných analytických metod vybudoványaparatury pro analýzy metodou protonové fluorescenční analýzy (PIXE), pružným rozptylem nabitých částic (RBS, ERDA) a různými jadernými reakcemi (PIGE, NRA). Širocepojatý interdisciplinární výzkum se provádí v těsné spolupráci se specializovanými pracovišti v ČR a v zahraničí.

Název v anglickém jazyce

Ion beammodificationofmaterialsforoptics, electronic and spintronics -ion implantationusingacceleratorsor laser induced plasma ion generation

Popis výsledku anglicky

Ion beammodificationoffers a broadfieldofthecreatingthenewfunctionalmaterials and nano-structuresforoptics, electronics, spintronics and othermaterialbranches. Usingionsproduced by ion acceleratorsorimplantersmeanstheusageofthemonoenergeticbeamsforprecisedopedlayer, nano-particlesor cluster creation by varyingthe ion implantationspecie versus matrix combinationtogetherwiththeimplantationenergy, ion flux etc. Recentlyappearsthemultienergetic ion implantationwhichisrealized by usingofthe intense laser shot generating plasma fromthespeciallydesignedtargets, wheretheions are accelerated and canbethenimplantedintothevariousmaterials. Thiscontributionwillpresentanoverview and comparisonofdifferent ion beammodificationtechniques, plasma ion implantationwillbealsomentioned.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

10301 - Atomic, molecular and chemical physics (physics of atoms and molecules including collision, interaction with radiation, magnetic resonances, Mössbauer effect)

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2016

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Zpravodaj ČVS

ISBN

—

ISSN

1213-2705

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

11

Strana od-do

33-43

Název nakladatele

Česká vakuová společnost

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Bořetice

Datum konání akce

30. 5. 2016

Typ akce podle státní příslušnosti

CST - Celostátní akce

Kód UT WoS článku

—