Vývoj CHON extrahentů a proliferačně - bezpečného pokročilého přepracování : ARTIST v Japonsku

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46356088%3A_____%2F08%3A%230000410" target="_blank" >RIV/46356088:_____/08:#0000410 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Developments of CHON - Extractans and Proliferation - Resistant Advanced Reprocessing: ARTIST, in Japan
Popis výsledku v původním jazyce
At the symposium SESTEC 2008 in India the main characteristic of the newly elaborated complex retreatment process ARTIST developed in Japan were summarized
Název v anglickém jazyce
Developments of CHON - Extractans and Proliferation - Resistant Advanced Reprocessing: ARTIST, in Japan
Popis výsledku anglicky
At the symposium SESTEC 2008 in India the main characteristic of the newly elaborated complex retreatment process ARTIST developed in Japan were summarized

Projekt
<a href="/cs/project/GA104%2F08%2F0006" target="_blank" >GA104/08/0006: Nové životaschopné procesy pro extrakční izolaci 137Cs a 90Sr z vysoceradioaktivních odpadních roztoků</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Popis výsledku