Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Numerical study of plasma fluctuations and their influence upon probe characteristics

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F01%3A24210026" target="_blank" >RIV/46747885:24210/01:24210026 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Numerical study of plasma fluctuations and their influence upon probe characteristics

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Rf or pulsed discharges have attracted a growing interest as a tool for plasma etching and deposition processes. Measurement of current-to-voltage characteristic using a small metallic electrode (Langmuire probe) immersed into the low temperature plasmaenables to determine the most important parameters of the plasma like plasma potential, density and temperature of electrons or electron energy distribution function. Fluctuations of plasma parameters lead to distortion of plasma characteristic. The question how these fluctuations influence errors of computed plasma parameters as been so far solved for special forms of fluctuations, leading to explicit mathematical formulas. To overcome these limitations we developed a code, written in Matlab, treating the problem on purely numerical basis. In contrast to previously published papers numeric access enables to investigate the influence of fluctuations of arbitrary shapes, amplitudes and correlations.

  • Název v anglickém jazyce

    Numerical study of plasma fluctuations and their influence upon probe characteristics

  • Popis výsledku anglicky

    Rf or pulsed discharges have attracted a growing interest as a tool for plasma etching and deposition processes. Measurement of current-to-voltage characteristic using a small metallic electrode (Langmuire probe) immersed into the low temperature plasmaenables to determine the most important parameters of the plasma like plasma potential, density and temperature of electrons or electron energy distribution function. Fluctuations of plasma parameters lead to distortion of plasma characteristic. The question how these fluctuations influence errors of computed plasma parameters as been so far solved for special forms of fluctuations, leading to explicit mathematical formulas. To overcome these limitations we developed a code, written in Matlab, treating the problem on purely numerical basis. In contrast to previously published papers numeric access enables to investigate the influence of fluctuations of arbitrary shapes, amplitudes and correlations.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2001

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Konference MATLAB 2001

  • ISBN

    80-7080-446-7

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    1

  • Strana od-do

    23

  • Název nakladatele

    HUMUSOFT Praha

  • Místo vydání

    Praha, ČR

  • Místo konání akce

    Praha, ČR

  • Datum konání akce

    1. 1. 2001

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku