Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Výpočty lokálního elektrického pole a elektrických sil působících na uhlíkové nanotrubičky v stejnosměrné plazmě.

Popis výsledku

Stejnosměrný bias byl ohlášen jajko nutná podmínka pro vyrovnaný růst uhlíkových nanotrubiček. K objasnění mechanismu uspořádání nanotrubiček jsme provedli numerické výpočty elektrického pole v kolizním pouzdře a výsledné elektrické síly působící na kopvé kapky na vrcholku nanotrubičky. Na základě modelových výpočtů , závislosti síly na různých parametrech, např. vzdálenosti mezi nanotrubičkami, výšky nanotrubiček a tvaru jejich vrcholků se podrobně diskutují. Teoretický model též předvídá jak tato síazávisí na stejnosměrném biasu a měrném odporu biasového substrátu.

Klíčová slova

Carbon nanotubesPlasma processing and depositionElectrical properties and measurements

Identifikátory výsledku

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The direct current bias has been reported as a necessary condition for aligned growth of carbon nanotubes. To clarify the mechanisms ofnanotube alignment we performed numerical calculations of the electrical field in the collisional sheath and the resultng electric force actingon the metallic droplet on the nanotube tip. Based on the model calculation, dependences of the force on various parameters, e.g. distancebetween nanotubes, height of nanotubes and form of their tips, is discussed in detail. The teoretical model also predicts how this forcedepends on the direct current bias and the resistivity of the biased substrate.

  • Název v anglickém jazyce

    Computations of local electric field and electric forces acting on carbon nanotubes in a DC plasma sheath.

  • Popis výsledku anglicky

    The direct current bias has been reported as a necessary condition for aligned growth of carbon nanotubes. To clarify the mechanisms ofnanotube alignment we performed numerical calculations of the electrical field in the collisional sheath and the resultng electric force actingon the metallic droplet on the nanotube tip. Based on the model calculation, dependences of the force on various parameters, e.g. distancebetween nanotubes, height of nanotubes and form of their tips, is discussed in detail. The teoretical model also predicts how this forcedepends on the direct current bias and the resistivity of the biased substrate.

Klasifikace

  • Druh

    Jx - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Thin Solid Films

  • ISSN

    0040-6090

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    489/1-2

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2005

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus