Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F08%3A%230000404" target="_blank" >RIV/46747885:24210/08:#0000404 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Modifikace povrchu tenkých vrstev TiO2/PECVD.
Popis výsledku v původním jazyce
Pro praktické využití fotokatalytického TiO2 je nutné zvládnutí technologie, která zajistí depozici tenkých TiO2 vrstev s dostatečnou fotokatalytickou aktivitou a adhezí k substrátu. Podmínky depozic by měly být takové, aby bylo možno použít i teplotně citlivé substráty. Těchto požadavků je možno docílit při depozici TiO2 vrstev metodou PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) s vhodně zvolenými depozičními podmínkami. Omezujícím faktorem pro dosažení vysoké fotoaktivity je především teplota,která má zásadní vliv na růst krystalové struktury nezbytné pro fotokatalytickou aktivitu.
Název v anglickém jazyce
Surface modification of thin layers TiO2/PECVD.
Popis výsledku anglicky
For practical exploitation of photocatalytic TiO2 is necessary handling of technology that enables depositioon of such thin TiO2 layers with satisfactory photocatalytic activity and adhesion to substrate. Depositions conditions should be such to enable use them for temeperature senyitive substrates as well. These requirements can be achieved at deposition of TiO2 layers by PECVD method(Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) whith suitable choiced deposition conditions. Limiting factor for high phjotoactivity achieving is first of all temeperature, whioch has basic effect on growth of crystalline structure necessary for photocatalytic activity.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
JK - Koroze a povrchové úpravy materiálu
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Nanomateriály a Fotokatalýza : 2. Seminář centra Nanopin.
ISBN
978-80-7080-681-4
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
—
Název nakladatele
VŠCHT Praha
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Zámek Liblice.
Datum konání akce
1. 1. 2008
Typ akce podle státní příslušnosti
CST - Celostátní akce
Kód UT WoS článku
—