Vytváření funkční vrstvy / optimalizace parametrů pro technologické nanášení tenkých vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F46747885%3A24210%2F23%3A00011319" target="_blank" >RIV/46747885:24210/23:00011319 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Vytváření funkční vrstvy / optimalizace parametrů pro technologické nanášení tenkých vrstev

Popis výsledku v původním jazyce

Naprášení tenké vrstvy z průhledného dielektrika je velmi slibný způsob dekorace povrchu skla. Je možné s pomocí interference na vrstvě vhodné tloušťky maximalizovat nebo potlačit kteroukoliv barvu dopadajícího světla. Je možné přitom volit dielektrikum s vysokou otěruvzdorností. Řada oxidů kovů dosahuje tvrdosti a otěruvzdornosti nitridů nebo karbidů těchto kovů. Přitom jde o dielektrické látky velmi stabilní a odolávající všem vnějším vlivům. Volbou dielektrika se značně odlišným indexem lomu lze dosáhnout interferencí i průhledné zabarvení vrstvy. Volbou odrazové mezivrstvy z vhodného kovu mezi sklem a dielektrikem lze dosáhnout naopak neprůhlednosti povrchové vrstvy a velmi syté interferenční barvy. Z uvedených důvodů byl zvolen způsob vytváření dekorativních interferenčních barev na dielektrických vrstvách z oxidů kovů. Tyto vrstvy považujeme za lepší alternativu než dnes často používané dekorativní vrstvy z různých karbonitridů titanu.

Název v anglickém jazyce

Formation of functional layer / optimization of parameters for technological thin film deposition

Popis výsledku anglicky

Sputtering a thin layer of transparent dielectric is a promising way to decorate the glass surface. It is possible to maximize or suppress any color of incident light with the help of interference on a layer of suitable thickness. It is possible to choose a dielectric with high abrasion resistance. Many metal oxides achieve the hardness and abrasion resistance of nitrides or carbides of these metals. These are very stable dielectrics that can withstand all external influences. By choosing a dielectric with a significantly different refractive index, interference and transparent colouring of the layer can be achieved. In contrast, by choosing a reflective interlayer of a suitable metal between the glass and the dielectric, opacity of the surface layer and a very rich interference colour can be achieved. For these reasons, a method of creating decorative interference colours on metal oxide dielectric layers was chosen. We consider these layers to be a better alternative than the decorative layers of various titanium carbonitrides often used today.

Druh

Z_tech - Ověřená technologie

CEP obor

—

OECD FORD obor

20506 - Coating and films

Projekt

<a href="/cs/project/EG20_321%2F0025264" target="_blank" >EG20_321/0025264: Předúprava, povlakování a ochrana substrátu</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2023

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Interní identifikační kód produktu

KMT-2023-ZB/17751-2

Číselná identifikace

KMT-2023-ZB/17751-2

Technické parametry

Vakuová komora musí být opatřena dvěma magnetrony s targety chrom a titan. Technologický postup: 1. Očistit substrát – podle Ověřené technologie I „Předúprava substrátu pro magnetronové naprašování“. 2. Vložit skleněný substrát do vakuové komory. 3. Naprášit vrstvu 200 nm chromu podle dosavadní technologie vytváření kovových vrstev ve firmě SANS SOUCI s použitím magnetronu s chromovým targetem. 4. Bez zavzdušnění nebo otevření komoru vyčerpat na vakuum 10-3 Pa. Doba čerpání a následné udržování vakua 10-3 Pa k desorpci zbytků předchozí atmosféry celkem 30 minut. 5. V atmosféře 40 sccm argonu a 8 sccm kyslíku při pracovním tlaku v rozmezí 0,25 až 0,3 Pa za použití magnetronu s titanovým targetem naprášit vrstvu TiO2 o tloušťce 95 nm – předpokládaná doba naprašování 5 až 10 minut. Ukončit proces naprašování zavzdušněním a vyjmutím povlakovaných předmětů stejně jako při použití jen čistých kovů..

Ekonomické parametry

Náklady na tuto stávající technologii byly vyčísleny hodnotou 479 Kč na jednu dávku čištěných skel, na 1 m2 upravovaného povrchu připadá 11 dávek, tedy dosavadní celkové náklady s použitím ověřené technologie na 1 m2 povlakované plochy činily 5270 Kč. Nové náklady vyplývají z přidaných nových kroků 4 a 5 v technologickém postupu. Předpokládáme, že při jednom procesu naprašování bude celková plocha povlakovaných povrchů právě 1 m2. Na tuto plochu jsou proto počítány nové náklady. Mzdové náklady za prodlouženou obsluhu zařízení (30 minut čerpání, pak 5 až 10 minut naprašování, odhad s nutnými mezičasy 45 minut, při odhadu nákladů 120 Kč/hod celkem 90 Kč. Režie – zvýšené náklady na provoz naprašovacího zařízení – předpoklad 20 % ze základních nákladů na krok 3 technologického postupu 4500 Kč/m2, tedy 900 Kč..

Kategorie aplik. výsledku dle nákladů

—

IČO vlastníka výsledku

46747885, 27278727

Název vlastníka

Technická univerzita v Liberci, SANS SOUCI s.r.o.

Stát vlastníka

CZ - Česká republika

Druh možnosti využití

V - Výsledek je využíván vlastníkem

Požadavek na licenční poplatek

A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek

Adresa www stránky s výsledkem

—