Special photomask for image distortion measurement of projection optics
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F47677023%3A_____%2F20%3AN0000007" target="_blank" >RIV/47677023:_____/20:N0000007 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Special photomask for image distortion measurement of projection optics
Popis výsledku v původním jazyce
Specially designed photomask produced by an electron lithography provides a valuable tool for ultra precision measurement of lithography lens image distortion. The mask is an essential part of a projection lens measuring setup.
Název v anglickém jazyce
Special photomask for image distortion measurement of projection optics
Popis výsledku anglicky
Specially designed photomask produced by an electron lithography provides a valuable tool for ultra precision measurement of lithography lens image distortion. The mask is an essential part of a projection lens measuring setup.
Klasifikace
Druh
G<sub>funk</sub> - Funkční vzorek
CEP obor
—
OECD FORD obor
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/TN01000008" target="_blank" >TN01000008: Centrum elektronové a fotonové optiky</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Interní identifikační kód produktu
MEO_NCK-DP09_2020_GFUNK01
Číselná identifikace
GFUNK
Technické parametry
Speciálně navržená fotomaska vyrobená elektronovou litografií poskytuje cenný nástroj pro ultra přesné měření zkreslení obrazu v čočkové sestavě optické litografie. Maska je nezbytnou součástí nastavení měření projekční
Ekonomické parametry
Technologie se využívá pro výzkumné účely.
Kategorie aplik. výsledku dle nákladů
—
IČO vlastníka výsledku
47677023
Název vlastníka
Meopta - optika, s.r.o., Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v.i.
Stát vlastníka
CZ - Česká republika
Druh možnosti využití
A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Požadavek na licenční poplatek
A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
Adresa www stránky s výsledkem
—