Electrical resistivity of Cu films sputtered by pulsed dc magnetron
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F03%3A00000106" target="_blank" >RIV/49777513:23520/03:00000106 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Electrical resistivity of Cu films sputtered by pulsed dc magnetron
Popis výsledku v původním jazyce
The experimental device consists of a stainless steel vacuum chamber with a planar circular unbalanced magnetron with a target 100 mm of Cu in diameter which is supplied by a pulsed dc power supply Rubig MP-120 with maximum pulse voltage 1000 V, the maximum pulse current 120 A, the maximum pulse power 120 kW and the average power 50 kW. The repetition frequency can be varied between 0.5 and 50 kHz.
Název v anglickém jazyce
Electrical resistivity of Cu films sputtered by pulsed dc magnetron
Popis výsledku anglicky
The experimental device consists of a stainless steel vacuum chamber with a planar circular unbalanced magnetron with a target 100 mm of Cu in diameter which is supplied by a pulsed dc power supply Rubig MP-120 with maximum pulse voltage 1000 V, the maximum pulse current 120 A, the maximum pulse power 120 kW and the average power 50 kW. The repetition frequency can be varied between 0.5 and 50 kHz.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20203" target="_blank" >ME 203: Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2003
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proceedings of the XIVth Symposium on Application of Plasma Processes
ISBN
8080401950
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
122-123
Název nakladatele
Military Academy
Místo vydání
Liptovský Mikuláš
Místo konání akce
Liptovský Mikuláš
Datum konání akce
13. 1. 2003
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—