Struktura a vlastnosti magnetronově naprašovaných vrstev Zr-Si-N s vysokým obsahem křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F05%3A00000250" target="_blank" >RIV/49777513:23520/05:00000250 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content

Popis výsledku v původním jazyce

The Zr-Si-N films were deposited using an unbalanced dc reactive magnetron sputtering of the alloyed ZrSi2 target in a mixture of argon and nitrogen onto steel and silicon substrates. This article reports on a systematic investigation of depences of the

Název v anglickém jazyce

Structure and properties of magnetron sputtered Zr-Si-N films with a high Si content

Popis výsledku anglicky

The Zr-Si-N films were deposited using an unbalanced dc reactive magnetron sputtering of the alloyed ZrSi2 target in a mixture of argon and nitrogen onto steel and silicon substrates. This article reports on a systematic investigation of depences of the

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Thin Solid Films

ISSN

0040-6090

e-ISSN

—

Svazek periodika

478

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

10

Strana od-do

238-247

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—