Tepelná charakterizace wolframových tenkých vrstev pomocí pulzní fototepelné radiometrie

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F07%3A00000137" target="_blank" >RIV/49777513:23520/07:00000137 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Tepelná charakterizace wolframových tenkých vrstev pomocí pulzní fototepelné radiometrie
Popis výsledku v původním jazyce
Tepelná vodivost a tepelný odpor na rozhraní byly zajišťovány pro wolframové tenké vrstvy pomocí pulzní fototepelné radiometrie. Je popsán experimentální systém založený na nanosekundovém pulzním laseru a vysokorychlostním IR detektoru. Je popsána kalibrace IR detektoru. Experimentální systém umožňuje zkoumání kovových vrstev s mikronovou i podmikronovou tloušťkou. Zkoumané vrstvy byly deponovány pomocí magnetronového naprašování na železném substrátu použitím dvou rozdílných depozičních podmínek.
Název v anglickém jazyce
Thermal characterization of tungsten thin films by pulsed photothermal radiometry
Popis výsledku anglicky
Thermal conductivity and thermal interface resistance of tungsten thin films were investigated by means of pulsed photothermal radiometry. The experimental system based on a nanosecond pulsed laser and a high speed IR photodetector is presented. Calibration of the IR detector is described. The experimental system enables investigation of micron and sub-micron thick metallic films. The investigated films were deposited by magnetron sputtering on iron substrates using two different deposition conditions.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BJ - Termodynamika
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)