Rapid Sterilization of Escherichia coli by Solution Plasma Process

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F12%3A43917795" target="_blank" >RIV/49777513:23520/12:43917795 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.51.126201" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.51.126201</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1143/JJAP.51.126201" target="_blank" >10.1143/JJAP.51.126201</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Rapid Sterilization of Escherichia coli by Solution Plasma Process

Popis výsledku v původním jazyce

Solution plasma has the potential for rapid sterilization of water without chemical agents. The discharge showed a strong sterilization performance against Escherichia coli bacteria. The decimal value of the reduction time for E. coli by this system withan electrode distance of 1.0 mm was estimated to be approximately 1.0 min. Our discharge system in the liquid phase caused no physical damage to the E. coli and only a small increase in the temperature of the aqueous solution. The UV light generated bythe discharge was an important factor in the sterilization of E. coli.

Název v anglickém jazyce

Rapid Sterilization of Escherichia coli by Solution Plasma Process

Popis výsledku anglicky

Solution plasma has the potential for rapid sterilization of water without chemical agents. The discharge showed a strong sterilization performance against Escherichia coli bacteria. The decimal value of the reduction time for E. coli by this system withan electrode distance of 1.0 mm was estimated to be approximately 1.0 min. Our discharge system in the liquid phase caused no physical damage to the E. coli and only a small increase in the temperature of the aqueous solution. The UV light generated bythe discharge was an important factor in the sterilization of E. coli.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS

ISSN

0021-4922

e-ISSN

—

Svazek periodika

51

Číslo periodika v rámci svazku

12

Stát vydavatele periodika

JP - Japonsko

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

1262011-1262014

Kód UT WoS článku

000312003100044

EID výsledku v databázi Scopus

—