Modeling the high power impulse magnetron sputtering discharge

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F20%3A43957190" target="_blank" >RIV/49777513:23520/20:43957190 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1016/B978-0-12-812454-3.00010-3" target="_blank" >https://doi.org/10.1016/B978-0-12-812454-3.00010-3</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1016/B978-0-12-812454-3.00010-3" target="_blank" >10.1016/B978-0-12-812454-3.00010-3</a>

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Modeling the high power impulse magnetron sputtering discharge
Popis výsledku v původním jazyce
The presented chapter in the book gives an extended overview and, when possible, a comparison of the theoretical and numerical methods used to tackle the different challenges encountered in HiPIMS discharges, from the cathode through the ionization region, the diffusion region, and, finally, to the substrate and chamber walls. We also highlight some important modeling results, which have been selected to emphasize the added understanding brought by computational modeling, but also to validate certain model approaches, or highlight model-specific results.
Název v anglickém jazyce
Modeling the high power impulse magnetron sputtering discharge
Popis výsledku anglicky
The presented chapter in the book gives an extended overview and, when possible, a comparison of the theoretical and numerical methods used to tackle the different challenges encountered in HiPIMS discharges, from the cathode through the ionization region, the diffusion region, and, finally, to the substrate and chamber walls. We also highlight some important modeling results, which have been selected to emphasize the added understanding brought by computational modeling, but also to validate certain model approaches, or highlight model-specific results.

Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název knihy nebo sborníku
High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
ISBN
978-0-12-812454-3
Počet stran výsledku
63
Strana od-do
159-221
Počet stran knihy
384
Název nakladatele
Elsevier
Místo vydání
Amsterdam
Kód UT WoS kapitoly
—

Podobné výsledky(10)