RBS, PIXE a NDP studie difuse erbia do povrchu skla pro využití ve fotonice

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22310%2F06%3A00016607" target="_blank" >RIV/60461373:22310/06:00016607 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61389005:_____/06:00040558 RIV/26722445:_____/06:#0000399
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
RBS, PIXE and NDP study of erbium incorporation into glass surface for photonics applications
Popis výsledku v původním jazyce
Erbium in-diffusion into silicate glass surfaces by ion exchange of erbium ions for lithium ions and characterization by ion-beam analytical techniques. It was found that the erbium incorporation is accompanied by Cs+ and Rb+ ion exchange. The Li concentration in the glass was the most important parameter for succesful Er-doping.
Název v anglickém jazyce
RBS, PIXE and NDP study of erbium incorporation into glass surface for photonics applications
Popis výsledku anglicky
Erbium in-diffusion into silicate glass surfaces by ion exchange of erbium ions for lithium ions and characterization by ion-beam analytical techniques. It was found that the erbium incorporation is accompanied by Cs+ and Rb+ ion exchange. The Li concentration in the glass was the most important parameter for succesful Er-doping.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
OECD FORD obor
—

Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)