Ověřená technologie produkce polovodivých BDD vrstev

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F60461373%3A22330%2F18%3A43923927" target="_blank" >RIV/60461373:22330/18:43923927 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Ověřená technologie produkce polovodivých BDD vrstev

Popis výsledku v původním jazyce

K procesu optimalizace parametrů depozice borem dopované diamantové vrstvy za použití CVD technologie byly využity dva mikrovlnné plazmové CVD systémy dostupné na FZÚ: (1)-systém ASTeX 5010 od společnosti Seki Technotron, Japonsko, (2) - systém Leybold MW-LA-PECVD.

Název v anglickém jazyce

Verification technology for production of BDD semiconducting layers

Popis výsledku anglicky

Two microwave plasma CVD systems available at FZÚ were used for the process of boron dopped diamond layer deposition parameters using CVD technology: (1) - ASTeX 5010 system from Seki Technotron, Japan, (2) - Leybold MW-LA-PECVD system.

Druh

O - Ostatní výsledky

CEP obor

—

OECD FORD obor

21001 - Nano-materials (production and properties)

Projekt

<a href="/cs/project/TH02030874" target="_blank" >TH02030874: Nové impedimetrické biosensory pro monitorování stopové kontaminace podzemních vod xenobiotiky v reálném čase: design a evaluace</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2018

Kód důvěrnosti údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.