Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Semiconductor Nanoparticles in the Channels of Mesoporous Silica and Titania Thin Films.

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388955%3A_____%2F02%3A54030054" target="_blank" >RIV/61388955:_____/02:54030054 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Semiconductor Nanoparticles in the Channels of Mesoporous Silica and Titania Thin Films.

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A procedure for the preparation of porous silica thin films was developed, which is based on the use of block copolymers as structure directing agents and the application of the dip-coating technique. The prepared films exhibit an uniform thickness and alarge roughness factor indicating the highly developed porosity. The addition of Cd2+ ions to the reaction gel for silica films prior to their formation, followed by the calcination of films at 623 K and treatment with H2S or H2Se is the preferred procedure for the creation of CdS or CdSe nanoparticles. The occurrence of the size-quantization effect confirms that the particles are located within the pores and that their size corresponds to the pore width of the host. The porous structure of titania films prepared using a poly(alkylene) block copolymer in an ethanolic medium depends on their thickness because the completeness of the hydrolysis of the titania precursor is decided by its accessibility for air humidity.

  • Název v anglickém jazyce

    Semiconductor Nanoparticles in the Channels of Mesoporous Silica and Titania Thin Films.

  • Popis výsledku anglicky

    A procedure for the preparation of porous silica thin films was developed, which is based on the use of block copolymers as structure directing agents and the application of the dip-coating technique. The prepared films exhibit an uniform thickness and alarge roughness factor indicating the highly developed porosity. The addition of Cd2+ ions to the reaction gel for silica films prior to their formation, followed by the calcination of films at 623 K and treatment with H2S or H2Se is the preferred procedure for the creation of CdS or CdSe nanoparticles. The occurrence of the size-quantization effect confirms that the particles are located within the pores and that their size corresponds to the pore width of the host. The porous structure of titania films prepared using a poly(alkylene) block copolymer in an ethanolic medium depends on their thickness because the completeness of the hydrolysis of the titania precursor is decided by its accessibility for air humidity.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/IAA4040804" target="_blank" >IAA4040804: Elektrochemické vlastnosti vysoce uspořádaného oxidu titaničitého</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2002

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    Impact of Zeolites and Other Porous Materials on the New Technologies at the Beginning of the New Millennium.

  • ISBN

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    1457-1464

  • Název nakladatele

    Elsevier

  • Místo vydání

    Amsterdam

  • Místo konání akce

    Taormina [IT]

  • Datum konání akce

    1. 9. 2002

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku