Periodic surface functional group density on graphene induced by pulsed laser patterning of SiO2/Si substrate
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388955%3A_____%2F20%3A00561114" target="_blank" >RIV/61388955:_____/20:00561114 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68407700:21340/20:00345146 RIV/68378271:_____/20:00561114
Výsledek na webu
<a href="https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?r=1&uri=CLEO_SI-2020-SW3G.4&seq=0" target="_blank" >https://opg.optica.org/viewmedia.cfm?r=1&uri=CLEO_SI-2020-SW3G.4&seq=0</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1364/CLEO_SI.2020.SW3G.4" target="_blank" >10.1364/CLEO_SI.2020.SW3G.4</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Periodic surface functional group density on graphene induced by pulsed laser patterning of SiO2/Si substrate
Popis výsledku v původním jazyce
The periodic functionalization of graphene has been achieved by pulsed laser substrate patterning. Laser-induced ripplesformed at Si/SiO2 interface periodically modulate the reactivity of the monolayer graphene via modulation of the doping density.
Název v anglickém jazyce
Periodic surface functional group density on graphene induced by pulsed laser patterning of SiO2/Si substrate
Popis výsledku anglicky
The periodic functionalization of graphene has been achieved by pulsed laser substrate patterning. Laser-induced ripplesformed at Si/SiO2 interface periodically modulate the reactivity of the monolayer graphene via modulation of the doping density.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10403 - Physical chemistry
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2020
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO) 2020. Proceedings
ISBN
978-194358076-7
ISSN
1092-8081
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
SW3G.4
Název nakladatele
IEEE
Místo vydání
New York
Místo konání akce
San Jose
Datum konání akce
10. 5. 2020
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000612090000307