UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388955%3A_____%2F99%3A54990111" target="_blank" >RIV/61388955:_____/99:54990111 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/67985858:_____/99:54990111

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.

Popis výsledku v původním jazyce

Original scientific paper dealing with UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.

Název v anglickém jazyce

UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.

Popis výsledku anglicky

Original scientific paper dealing with UV-Laser-Induced Photolysis of Trimethyl(vinyloxy)silane for Chemical Vapour Deposition of Polysiloxane Films.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA203%2F96%2F1217" target="_blank" >GA203/96/1217: Laserově iniciovaná chemická depozice Si2O a Si2O:H filmů z plynné fáze. Studium přípravy a vlastnostní nových polovodičových materiálů</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

1999

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Applied Organometallic Chemistry

ISSN

0268-2605

e-ISSN

—

Svazek periodika

13

Číslo periodika v rámci svazku

N/A

Stát vydavatele periodika

GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—