Ge 4+ doped TiO 2 for stoichiometric degradation of warfare agents

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61388980%3A_____%2F12%3A00377983" target="_blank" >RIV/61388980:_____/12:00377983 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.jhazmat.2012.05.007" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.jhazmat.2012.05.007</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.jhazmat.2012.05.007" target="_blank" >10.1016/j.jhazmat.2012.05.007</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Ge 4+ doped TiO 2 for stoichiometric degradation of warfare agents

Popis výsledku v původním jazyce

Germanium doped TiO 2 was prepared by homogeneous hydrolysis of aqueous solutions of GeCl 4 and TiOSO 4 with urea. The synthesized samples were characterized by X-ray diffraction, scanning electron microscopy, EDS analysis, specific surface area (BET) and porosity determination (BJH). Ge 4+ doping increases surface area and content of amorphous phase in prepared samples. These oxides were used in an experimental evaluation of their reactivity with chemical warfare agent, sulphur mustard, soman and agentVX. Ge 4+ doping worsens sulphur mustard degradation and improves soman and agent VX degradation. The best degree of removal (degradation), 100% of soman, 99% of agent VX and 95% of sulphur mustard, is achieved with sample with 2wt.% of germanium.

Název v anglickém jazyce

Ge 4+ doped TiO 2 for stoichiometric degradation of warfare agents

Popis výsledku anglicky

Germanium doped TiO 2 was prepared by homogeneous hydrolysis of aqueous solutions of GeCl 4 and TiOSO 4 with urea. The synthesized samples were characterized by X-ray diffraction, scanning electron microscopy, EDS analysis, specific surface area (BET) and porosity determination (BJH). Ge 4+ doping increases surface area and content of amorphous phase in prepared samples. These oxides were used in an experimental evaluation of their reactivity with chemical warfare agent, sulphur mustard, soman and agentVX. Ge 4+ doping worsens sulphur mustard degradation and improves soman and agent VX degradation. The best degree of removal (degradation), 100% of soman, 99% of agent VX and 95% of sulphur mustard, is achieved with sample with 2wt.% of germanium.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

CA - Anorganická chemie

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GAP106%2F12%2F1116" target="_blank" >GAP106/12/1116: Nanokrystalické oxidy kovů pro bezpečnou a rychlou degradaci organofosforečných pesticidů</a><br>

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2012

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Journal of Hazardous Materials

ISSN

0304-3894

e-ISSN

—

Svazek periodika

227

Číslo periodika v rámci svazku

AUGUST

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

62-67

Kód UT WoS článku

000306627000009

EID výsledku v databázi Scopus

—