Dewetting a adsorpce homopolymerních filmů, obsahujících triblokové kopolymery: vliv architektury řetězce a molární frakce adherujícího bloku
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389013%3A_____%2F05%3A00030300" target="_blank" >RIV/61389013:_____/05:00030300 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Dewetting and adsorption in homopolymer films containing triblock copolymers: role of chain architecture and anchoring block molar fraction
Popis výsledku v původním jazyce
Triblock copolymer additives stabilize thin-film dewetting of B-type homopolymers deposited on silicon oxide. The triblock copolymers? architectures are ABA and BAB, where A and B represent anchoring and nonadsorbing blocks with degrese of polymerizationNA and NB, respectively. Upon adding 1 vol.% of the ABA additive, dewetting is only observed for anchoring block molar fractions, fA, below 4%. Compared with films containing diblock copolymers, the interfacial excess, z*, of triblock copolymers at themelt/substrate interface is relatively small as measured by low-energy forward-recoil spectrometry. The higher coverage and grafting density observed for diblock copolymers suggests that diblocks are more effective than triblocks in improving thin-film stability.
Název v anglickém jazyce
Dewetting and adsorption in homopolymer films containing triblock copolymers: role of chain architecture and anchoring block molar fraction
Popis výsledku anglicky
Triblock copolymer additives stabilize thin-film dewetting of B-type homopolymers deposited on silicon oxide. The triblock copolymers? architectures are ABA and BAB, where A and B represent anchoring and nonadsorbing blocks with degrese of polymerizationNA and NB, respectively. Upon adding 1 vol.% of the ABA additive, dewetting is only observed for anchoring block molar fractions, fA, below 4%. Compared with films containing diblock copolymers, the interfacial excess, z*, of triblock copolymers at themelt/substrate interface is relatively small as measured by low-energy forward-recoil spectrometry. The higher coverage and grafting density observed for diblock copolymers suggests that diblocks are more effective than triblocks in improving thin-film stability.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CD - Makromolekulární chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Adhesion
ISSN
0021-8464
e-ISSN
—
Svazek periodika
81
Číslo periodika v rámci svazku
7-8
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
16
Strana od-do
683-698
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—