Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Dewetting a adsorpce homopolymerních filmů, obsahujících triblokové kopolymery: vliv architektury řetězce a molární frakce adherujícího bloku

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61389013%3A_____%2F05%3A00030300" target="_blank" >RIV/61389013:_____/05:00030300 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Dewetting and adsorption in homopolymer films containing triblock copolymers: role of chain architecture and anchoring block molar fraction

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Triblock copolymer additives stabilize thin-film dewetting of B-type homopolymers deposited on silicon oxide. The triblock copolymers? architectures are ABA and BAB, where A and B represent anchoring and nonadsorbing blocks with degrese of polymerizationNA and NB, respectively. Upon adding 1 vol.% of the ABA additive, dewetting is only observed for anchoring block molar fractions, fA, below 4%. Compared with films containing diblock copolymers, the interfacial excess, z*, of triblock copolymers at themelt/substrate interface is relatively small as measured by low-energy forward-recoil spectrometry. The higher coverage and grafting density observed for diblock copolymers suggests that diblocks are more effective than triblocks in improving thin-film stability.

  • Název v anglickém jazyce

    Dewetting and adsorption in homopolymer films containing triblock copolymers: role of chain architecture and anchoring block molar fraction

  • Popis výsledku anglicky

    Triblock copolymer additives stabilize thin-film dewetting of B-type homopolymers deposited on silicon oxide. The triblock copolymers? architectures are ABA and BAB, where A and B represent anchoring and nonadsorbing blocks with degrese of polymerizationNA and NB, respectively. Upon adding 1 vol.% of the ABA additive, dewetting is only observed for anchoring block molar fractions, fA, below 4%. Compared with films containing diblock copolymers, the interfacial excess, z*, of triblock copolymers at themelt/substrate interface is relatively small as measured by low-energy forward-recoil spectrometry. The higher coverage and grafting density observed for diblock copolymers suggests that diblocks are more effective than triblocks in improving thin-film stability.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    CD - Makromolekulární chemie

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2005

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Journal of Adhesion

  • ISSN

    0021-8464

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    81

  • Číslo periodika v rámci svazku

    7-8

  • Stát vydavatele periodika

    US - Spojené státy americké

  • Počet stran výsledku

    16

  • Strana od-do

    683-698

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus