Nedestruktivní měření tloušťky oxidu křemíku na substrátu křemíku

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989100%3A27350%2F06%3A00016822" target="_blank" >RIV/61989100:27350/06:00016822 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Nondestructive measurement of thickness of silicon oxide thin film on silicon substrate

Popis výsledku v původním jazyce

Nondestructive measurement of thickness of silicon oxide thin film on silicon substrate

Název v anglickém jazyce

Nondestructive measurement of thickness of silicon oxide thin film on silicon substrate

Popis výsledku anglicky

Nondestructive measurement of thickness of silicon oxide thin film on silicon substrate

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA202%2F06%2F0531" target="_blank" >GA202/06/0531: Reflexní a vlnovodné jevy v magnetických nanostrukturách</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2006

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Development of Materials Science in Research and Education

ISBN

80-901748-7-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

2

Strana od-do

38-39

Název nakladatele

Czech and Slovak Crystallographic Association Praha

Místo vydání

Valtice

Místo konání akce

—

Datum konání akce

—

Typ akce podle státní příslušnosti

—

Kód UT WoS článku

—