White-light spectral interferometry and reflectometry to measure thickness of thin films

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989100%3A27350%2F09%3A00021759" target="_blank" >RIV/61989100:27350/09:00021759 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

White-light spectral interferometry and reflectometry to measure thickness of thin films

Popis výsledku v původním jazyce

A white-light spectral interferometric technique and reflectometry are used for measuring the thickness of a SiO2 thin film grown by thermal oxidation on a Si substrate is presented.

Název v anglickém jazyce

White-light spectral interferometry and reflectometry to measure thickness of thin films

Popis výsledku anglicky

A white-light spectral interferometric technique and reflectometry are used for measuring the thickness of a SiO2 thin film grown by thermal oxidation on a Si substrate is presented.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2009

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of SPIE

ISBN

—

ISSN

0277-786X

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

—

Název nakladatele

SPIE - The International Society for Optical Engineering

Místo vydání

Bellingham

Místo konání akce

Mnichov, Německo

Datum konání akce

15. 6. 2009

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—