Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Plazmová aparatura s nanoklastrovým depozičním zdrojem; popis konstrukčního řešení, konstrukční dokumentace; výsledek č. TA04011156-2015V003

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F15%3A33156241" target="_blank" >RIV/61989592:15310/15:33156241 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Plazmová aparatura s nanoklastrovým depozičním zdrojem; popis konstrukčního řešení, konstrukční dokumentace; výsledek č. TA04011156-2015V003

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Technická dokumentace k realizované plazmové aparatuře s nanoklastrovým depozičním zdrojem zahrnuje popis konstrukčního řešení včetně montážních postupů základní vakuové komory depozičního reaktoru, adaptérů pro různé typy vakuových přírub, otočného stolku s držákem substrátů pro teploty do 800 oC , konstrukční řešení optimalizované konfigurace depozičních magnetronů a nosného spojovacího systému. Pro depozici klastrů je na přírubě s magnetrony umístěna trubice s průtokem argonu a diafragmou.

  • Název v anglickém jazyce

    Plasma apparatus with nanocluster deposition source; description of the construction design, construction documentation; result no. TA04011156-2015V003

  • Popis výsledku anglicky

    The technical documentation for the implemented plasma apparatus with nanocluster deposition source includes a description of construction arrangement together with assembly procedures of basic vacuum chamber of the deposition reactor, flange adapters for using of different types of vacuum flanges, rotary table with a substrate holder for temperatures up to 800 oC, optimised construction design for configuration of deposition magnetrons and a supporting connecting system. For deposition of clusters, the flange with the magnetrons is equipped with a tube enabling flow of argon into the chamber and with a diaphragm.

Klasifikace

  • Druh

    V<sub>souhrn</sub> - Souhrnná výzkumná zpráva

  • CEP obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/TA04011156" target="_blank" >TA04011156: Funkční tenkovrstvé optické struktury.</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2015

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Počet stran výsledku

    12

  • Místo vydání

  • Název nakladatele resp. objednatele

    Technologická agentura České republiky

  • Verze