Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Měření vrstev laku na elektronických součástkách kondenzátorů

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F61989592%3A15310%2F25%3A73635254" target="_blank" >RIV/61989592:15310/25:73635254 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Měření vrstev laku na elektronických součástkách kondenzátorů

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Byla posouzena možnost měření tloušťky laku na pouzdrech kondenzátorů pomocí konfokální mikroskopie. K měření byl použit konfokální mikroskop pracující na vlnové délce 405 nm. Pro správné stanovení tloušťky bylo nejprve nutné určit index lomu laku na pracovní vlnové délce, který byl změřen pomocí spektrální elipsometrie na referenčních vrstvách připravených na křemíkových podložkách. Tloušťka laku byla následně měřena přímo na vybraných pouzdrech kondenzátorů v několika reprezentativních oblastech. Byla zjištěna nehomogenita rozložení vrstvy související s tvarovými odchylkami povrchu pouzder. Doplňková měření drsnosti a vlnitosti povrchu pouzder bez laku ukázala, že morfologie podkladu významně ovlivňuje lokální profil a rovnoměrnost nanesené vrstvy. Bylo potvrzeno, že konfokální mikroskopie je vhodnou metodou pro profilové měření tloušťky laku na těchto typech součástek. Při interpretaci výsledků je však nutné zohlednit povrchovou topografii a přesné stanovení indexu lomu měřeného materiálu.

  • Název v anglickém jazyce

    Measurement of coating layers on electronic capacitor components

  • Popis výsledku anglicky

    The feasibility of measuring the thickness of a coating layer on capacitor packages using confocal microscopy was investigated. A confocal microscope operating at a wavelength of 405 nm was employed. To enable accurate thickness determination, the refractive index of the coating at the operating wavelength was first measured by spectral ellipsometry on reference films prepared on silicon substrates. The coating thickness was subsequently evaluated directly on selected capacitor packages in several representative regions. An inhomogeneous distribution of the coating layer was observed, primarily related to surface shape deviations of the packages. Additional measurements of surface roughness and waviness of uncoated packages demonstrated that substrate morphology significantly influences the local thickness profile and uniformity of the applied layer. It was confirmed that confocal microscopy represents a suitable method for profiling the coating thickness on this type of component. However, proper interpretation of the results requires careful consideration of surface topography and accurate knowledge of the material’s refractive index.

Klasifikace

  • Druh

    V<sub>souhrn</sub> - Souhrnná výzkumná zpráva

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2025

  • Kód důvěrnosti údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Počet stran výsledku

    6

  • Místo vydání

  • Název nakladatele resp. objednatele

    Kyocera s.r.o., Lanškroun

  • Verze