UV Laser Photodeposition of Nanotextured Poly(hydridomethylsiloxane) Powder from Gaseous 1,3-Dimethyldisiloxane.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F01%3A27013039" target="_blank" >RIV/67985858:_____/01:27013039 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
UV Laser Photodeposition of Nanotextured Poly(hydridomethylsiloxane) Powder from Gaseous 1,3-Dimethyldisiloxane.
Popis výsledku v původním jazyce
Solid nanotextured poly(hydridomethylsiloxane) is deposited by UV laser photolysis of gaseous 1,3-dimethyldisiloxane. XPS analysis on the solid deposit, which might have further applications as a catalytic support, indicates a surface composition of SiC0.85-9O1-1.1. EDX-SEM analysis reveals that the stoichiometry of the bulk material is SiO0.6C1.5, while IR analysis indicates high contents of Si-H bonds, which might be helpful for modification of the surface.
Název v anglickém jazyce
UV Laser Photodeposition of Nanotextured Poly(hydridomethylsiloxane) Powder from Gaseous 1,3-Dimethyldisiloxane.
Popis výsledku anglicky
Solid nanotextured poly(hydridomethylsiloxane) is deposited by UV laser photolysis of gaseous 1,3-dimethyldisiloxane. XPS analysis on the solid deposit, which might have further applications as a catalytic support, indicates a surface composition of SiC0.85-9O1-1.1. EDX-SEM analysis reveals that the stoichiometry of the bulk material is SiO0.6C1.5, while IR analysis indicates high contents of Si-H bonds, which might be helpful for modification of the surface.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/IAA4072806" target="_blank" >IAA4072806: Laserově iniciovaný rozklad hydridodisiloxanů</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Chemical Vapor Deposition
ISSN
0948-1907
e-ISSN
—
Svazek periodika
7
Číslo periodika v rámci svazku
1
Stát vydavatele periodika
DE - Spolková republika Německo
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
19-22
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—