Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition of Selenium Films by KrF Laser Photolysis of Dimethyl Selenium.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F01%3A27013070" target="_blank" >RIV/67985858:_____/01:27013070 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition of Selenium Films by KrF Laser Photolysis of Dimethyl Selenium.
Popis výsledku v původním jazyce
Krf laser-induced photolysis of gaseous dimethyl selenium in excess of helium is controlled by cleavage of both Se-C bonds and affords ethane as a very dominant gaseous product together with elemental selenium. The photolysis mechanism being different from that of thermolysis shows potential for chemical vapour deposition of selenium films not contaminated with carbon impurities.
Název v anglickém jazyce
Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition of Selenium Films by KrF Laser Photolysis of Dimethyl Selenium.
Popis výsledku anglicky
Krf laser-induced photolysis of gaseous dimethyl selenium in excess of helium is controlled by cleavage of both Se-C bonds and affords ethane as a very dominant gaseous product together with elemental selenium. The photolysis mechanism being different from that of thermolysis shows potential for chemical vapour deposition of selenium films not contaminated with carbon impurities.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/ME%20191" target="_blank" >ME 191: Zvýšení kontroly průběhu fotochemických reakcí účinkem laserového záření</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2001
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Applied Surface Science
ISSN
0169-4332
e-ISSN
—
Svazek periodika
172
Číslo periodika v rámci svazku
3-4
Stát vydavatele periodika
NL - Nizozemsko
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
220-224
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—