IČ laserově indukovaný ko-rozklad trisilanu a thiiranu pro deposici polykarbosilthianových filmů

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985858%3A_____%2F08%3A00305048" target="_blank" >RIV/67985858:_____/08:00305048 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/61388980:_____/08:00305048
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
IR Laser-Induced Co-Decomposition of Trisilane and Thiirane for Deposition of
Popis výsledku v původním jazyce
TEA CO2 laser irradiation of gaseous trisilane-thiirane mixtures results in the co-decomposition of both components and allows chemical vapor deposition of polycarbosilthiane films that undergo reaction with air moisture, evolve H2S and develop to nano-sized polycarbosiloxanes.
Název v anglickém jazyce
IR Laser-Induced Co-Decomposition of Trisilane and Thiirane for Deposition of
Popis výsledku anglicky
TEA CO2 laser irradiation of gaseous trisilane-thiirane mixtures results in the co-decomposition of both components and allows chemical vapor deposition of polycarbosilthiane films that undergo reaction with air moisture, evolve H2S and develop to nano-sized polycarbosiloxanes.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
OECD FORD obor
—

Projekt
<a href="/cs/project/ME%20846" target="_blank" >ME 846: Lasery iniciovaná chemická depozice nano sulfidů kovů z plynné fáze</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>R - Projekt Ramcoveho programu EK

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Popis výsledku