Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F19%3A00523531" target="_blank" >RIV/67985882:_____/19:00523531 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://hdl.handle.net/11104/0307887" target="_blank" >http://hdl.handle.net/11104/0307887</a>
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Koloidní difuzní zdroj bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Popis výsledku v původním jazyce
Technické řešení se týká složení koloidního difuzního zdroje bóru pro přípravu dotovaného křemíku typu P
Název v anglickém jazyce
Colloidal boron diffusion source for the preparation of doped P-type silicon
Popis výsledku anglicky
The utility model relates to the composition of a colloidal diffusion source of boron for the preparation of doped P-type silicon

Projekt
<a href="/cs/project/FV30151" target="_blank" >FV30151: Koloidní difuzní zdroje pro technologii výkonových polovodičových součástek</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru
33261
Vydavatel
CZ001 -
Název vydavatele
Industrial Property Office
Místo vydání
Prague
Stát vydání
CZ - Česká republika
Datum přijetí
—
Název vlastníka
Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.
Způsob využití
A - Výsledek využívá pouze poskytovatel
Druh možnosti využití
P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence

Popis výsledku