Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Hydrofobní koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F67985882%3A_____%2F20%3A00537420" target="_blank" >RIV/67985882:_____/20:00537420 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034311.pdf" target="_blank" >https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0034/uv034311.pdf</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    čeština

  • Název v původním jazyce

    Hydrofobní koloidní difuzní zdroj fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Technické řešení se týká složení hydrofobního koloidního difuzního zdroje fosforu pro přípravu dotovaného křemíku typu N.

  • Název v anglickém jazyce

    Hydrophobic colloidal diffusion source of phosphorus for preparing doped silicon type N

  • Popis výsledku anglicky

    The utility model relates to the composition of a hydrophobic colloidal diffusion source of phosphorous for the preparation of doped N-type silicon

Klasifikace

  • Druh

    F<sub>uzit</sub> - Užitný vzor

  • CEP obor

  • OECD FORD obor

    20201 - Electrical and electronic engineering

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2020

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Číslo patentu nebo vzoru

    34311

  • Vydavatel

    CZ001 -

  • Název vydavatele

    Industrial Property Office

  • Místo vydání

    Prague

  • Stát vydání

    CZ - Česká republika

  • Datum přijetí

  • Název vlastníka

    Ústav fotoniky a elektroniky AV ČR, v. v. i.

  • Způsob využití

    A - Výsledek využívá pouze poskytovatel

  • Druh možnosti využití

    P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence