Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F03%3A00047118" target="_blank" >RIV/68081731:_____/03:00047118 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Technologie reliéfních difraktivních struktur připravovaných elektronovou litografií

Popis výsledku v původním jazyce

j) Byla vyvinuta technologie, která umožňuje pomocí elektronové litografie vytvářet reliéfní struktury binární i vícestupňové. Pomocí těchto struktur lze průmyslové vyrábět tzv.syntetické bezpečnostní hologramy pomocí jen elektronové litografie.

Název v anglickém jazyce

Technology of relief diffractive structures mode by e-beam lithography

Popis výsledku anglicky

A technology that enables creation of binary as well as multi-level relief structures using e-beam lithography was developed. These structures are used to industrial production of so called synthetic security hologrames.

Druh

X - Nezařazeno

CEP obor

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/IBS2065014" target="_blank" >IBS2065014: Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2003

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů