Lokalizace submikronové částice pomocí evanescentního pole

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68081731%3A_____%2F05%3A00022520" target="_blank" >RIV/68081731:_____/05:00022520 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Submicron particle localization using evanescent field

Popis výsledku v původním jazyce

Recently a non-contact organization of submicron colloidal particles on the surface attracted a great attention in connection with development of imaging techniques using total internal reflection. We focus here on the theoretical description of the forces acting on a submicron particle placed in an interference field created by two counter-propagating evanescent waves. Numerical results elucidate how these forces or trap depth depend on the particle size and angle of incidence of both beams. Experimental results proved these conclusions and several polystyrene particles of diameter 520 nm were confined in evanescent standing wave.

Název v anglickém jazyce

Submicron particle localization using evanescent field

Popis výsledku anglicky

Recently a non-contact organization of submicron colloidal particles on the surface attracted a great attention in connection with development of imaging techniques using total internal reflection. We focus here on the theoretical description of the forces acting on a submicron particle placed in an interference field created by two counter-propagating evanescent waves. Numerical results elucidate how these forces or trap depth depend on the particle size and angle of incidence of both beams. Experimental results proved these conclusions and several polystyrene particles of diameter 520 nm were confined in evanescent standing wave.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BH - Optika, masery a lasery

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Optical Trapping and Optical Micromanipulation II. (Proceedings of SPIE Vol. 5930)

ISBN

0-8194-5935-6

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

182-190

Název nakladatele

International Society for Optical Engineering

Místo vydání

Belingham

Místo konání akce

San Diego

Datum konání akce

31. 7. 2005

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—